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PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統是一款低成本，適合于科研機構實驗室的桌面型科研設備，整套系統的目的是在4寸以及以下的樣品上進行干法刻蝕。該系統包括反應腔室，真空系統，RF射頻系統，反應氣路系統，電器控制，軟件程序等幾個子系統。